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脉冲等离子体辅助化学气相沉积相关论文

温度与气压对脉冲PECVD沉积氧化铝薄膜的影响

在有机基体表面等离子体增强化学气相沉积(PECVD) Al2O3薄膜是提高其阻隔性能的有效方法,而高品质的Al2O3薄膜是提高阻隔性的关键......

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脉冲等离子体辅助化学气相沉积氧化铝工作气压和沉积温度水蒸汽透过率

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