超短焦投影相比于其他投影技术只需极短的工作距离,在提高空间利用率的同时,避免了光线投射区域内存在障碍物遮挡的问题。正因如此......

ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......