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惯性约束聚变实验用平面薄膜的制备及其表面图形的引入
平面薄膜是ICF分解实验的重要靶型.以半导体技术结合重掺杂自截止腐蚀制备厚度为3-4μm的Si平面薄膜,以热蒸发结合脱膜工艺制备AI......
期刊
平面薄膜
离子束刻蚀
惯性约束聚变实验
表面图形
制备
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self-stopping etching process
evaporati
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