针孔密度相关论文
ＳＩＭＯＸ材料中隐埋氧化层的针孔漏电可使器件完全失效，本文用ＣｕＳＯ４电解电镀法测定了不同工艺条件制备的ＳＩＭＯＸ材料ＢＯＸ中的针孔密度并用改进的二维程序定性......
我们在研制和生产双层布线的 3μm CMOS LSI器件时,采用了 PECVD SiON（等离子增强化学气相沉积的氮氧化硅）膜作金属层之间的绝缘层.......
光刻胶针孔密度测试方法－透射铬版法的研究喻小琦，马存恕（广州化学试剂研究所，广州 ５１０２８０）（北京化学试剂研究所，北京１０００２２）关键词光刻胶，针孔密度，透射......
