锰硅化物相关论文
报道了利用固相反应方法在单晶Si(100)衬底上制备锰硅化物薄膜.实验发现,样品在固相反应过程中经历了两种相转变,即反应温度为450......
利用超高真空扫描隧道显微镜研究了室温至610℃的条件下锰在Si(111)-7×7表面的反应生长情况,制备出了锰纳米团簇和几种锰硅化物。......
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研究了扩散源的浓度与掺杂后硅材料补偿度之间的关系.以MnCl2·4H2O乙醇溶液为扩散源,涂在初始电阻率为3.8 Ω·cm的p型单......
