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难熔金属溅射靶材相关论文
SPS制备难熔钼及钼钽溅射靶材的组织和性能
采用放电等离子体烧结(SPS)技术,在烧结温度1400~1600℃、保温时间5 min及压力30 MPa下制备纯钼和两种不同成分(Mo-3%Ta、Mo-5%Ta,质......
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难熔金属溅射靶材
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