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反应离子刻蚀工艺中颗粒异常分析与改善
在使用反应离子刻蚀(RIE)工艺制造集成电路中,金属刻蚀后原介质层产生密集黑色颗粒物。采用了隧道扫描电镜(STM)的方法,对样片进行......
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