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高温致密化相关论文

二氧化硅厚膜材料的快速生长及其致密化处理

采用火焰水解法(FHD)在Si片上快速淀积出SiO2厚膜材料,材料膜厚40μm以上,生长速率8μm/min.将该材料分别在真空中和空气中高温致......

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火焰水解法高温致密化玻璃态二氧化硅厚膜材料半导体 flame hydrolysis deposition (FHD) consolidation s

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