高纯钨相关论文
高纯钨具有高抗电子迁移、高硬度和高熔点等优良性能而被广泛应用于制备溅射靶材、放电灯电极和高温炉构件等.本文综述了高纯钨的......
难熔金属钨凭借其较高的强度和硬度、良好的导热导电性,以及优异的高温稳定性等优点被广泛应用于电子工业、航空航天和核能等领域......
摘要：高纯钨具有较强的电子迁移能力、高温稳定性等优异性能,在半导体领域具有广泛的应用前景。但微量杂质会引起材料性能的严重恶......
该论文对电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)分析中基体钨21种分析元素的光 谱干扰、基体效应及其校正方法进行了较为系统、深......
合理的金相试样制备方法是获得清晰、高质量显微组织图像的保障,是材料金相研究的基础。对高纯钨、高氮不锈钢、汽车钢板、涂层材......
通过对不同结构的高纯钨进行微米和纳米压痕实验,发现压痕尺寸和晶粒/亚晶粒尺寸对材料的硬度有重要影响。探讨硬度的晶界效应和压......
采用辉光放电质谱法（GD—MS）同时测定了高纯钨锭中66种痕量杂质元素。主要杂质元素（K，Ba等）的测定值与电感耦合等离子体质谱法（ICP—MS）定......
采用较低温度下的化学气相沉积技术制备了高纯钨，利用分离式HOPKINSON压杆装置对制备的高纯钨和商用粉末烧结纯钨进行应变率为1000／s......
采用电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）法测定高纯钨中杂质元素含量;应用H2反应池技术消除复合离子对K、Ca、Fe和Si等元素的干扰;考察了......
采用电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)测定高纯钨中26种痕量杂质元素,讨论了溶样方式,研究了质谱干扰和钨基体效应,应用屏蔽炬技术......
期刊
综述了高纯钨制备工艺的原理及其研究现状,着重介绍了沉淀分离、溶剂萃取分离和离子交换分离等化学提纯方法,以及真空脱气、真空蒸......
微电子技术、光电技术对钨的纯度要求越来越高，熔炼钨纯度离但尺寸规格小且加工难度大。仅对采用粉未冶盖法制取高纯钨材工艺试验过......
高纯钨具有很高的附加价值,其市场前景与集成电路发展密切相关,高纯钨的净化是目前高纯钨生产中的重要研究课题。简要介绍了国内外......
<正> 随着钨及钨合金在宇航、原子能、电子工业及精密合金等工业中的应用日益广泛,大大促进了钨材工业的科研及生产的发展,与此同......
用扫描电镜上的EBSD装置研究化学气相沉积法制备的高纯钨的晶体取向,化学气相沉积钨具有{110}〈001〉取向织构;用电子万能试验机和......
