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放氧反应是光催化分解水反应的决速步骤,而助催化剂因为能够有效改善催化剂表面水氧化反应动力学而受到广泛重视[ 1]。磁控溅射沉是工业上广泛应用的薄膜沉积技术,尤其在制备具有特定的光学或电学性质的薄膜方面有其独特的技术优势,例如薄膜厚度均匀、易于重复、可规模化生产等[2,3 ]。我们尝试使用这种磁控溅射技术制备Ni-Fe-O 三元氧化物薄膜电极用于水的分解。