【摘 要】
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一定结构的半球（阴极）－平板（阳极）组成的真空间隙，来模拟特种电真空器件中电极间的微放电过程。用ＩＢＡＯ（高子束辅助沉积）法，在阴极半球面上沉积出结合程度很高的晶化ＴｉＢ〈，２〉薄膜。实验证明：相比
【机 构】
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工程物理研究院应用电子学研究所(成都)
【出 处】
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中国电子学会真空电子学分会第十二届学术年会
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一定结构的半球（阴极）－平板（阳极）组成的真空间隙，来模拟特种电真空器件中电极间的微放电过程。用ＩＢＡＯ（高子束辅助沉积）法，在阴极半球面上沉积出结合程度很高的晶化ＴｉＢ〈，２〉薄膜。实验证明：相比不锈钢材料，在高达１０００℃的温度下，表面几乎不氧化，在单次脉冲高压作用下，在经受数百次高能微粒轰击后，还能承受更高电压、，放电特征参数，更弱，对脉冲电源形成的动态负载更轻。
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