光致变色二芳烯掩膜在近场光存储中的应用

来源 :2006中国科协年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:huanan_0909
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合成了在Super-rens存储方式中适合做掩膜层和记录层材料的两种全氟二芳烯,旋涂法制备了实验存储盘片,并进行了近场存储实验.初步的实验表明光致变色二芳烯掩膜层可以缩小聚焦激光的直径,得到小尺寸记录信息.掩膜层中二芳烯的浓度,对近场存储结果影响很大,存在一个最佳浓度使记录光斑的尺寸减少到最小、(从1.6μm减小至1.0μm).
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