【摘 要】
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低聚倍半硅氧烷(POSS)杂化光学分子的可控制备与聚集机理研究一直是其领域的难题和热点。利用经典Heck反应可以可控制备POSS基的有机/无机杂化光学材料。通过对其进行了
【机 构】
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东华大学材料科学与工程学院上海市201620东华大学纤维材料改性国家重点实验室上海201620
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低聚倍半硅氧烷(POSS)杂化光学分子的可控制备与聚集机理研究一直是其领域的难题和热点。利用经典Heck反应可以可控制备POSS基的有机/无机杂化光学材料。通过对其进行了结构表征和性能研究，发现可以通过改变投料比简单地调控取代数目，并且不同取代数目的分子其性能有较为明显的差异。同时杂化分子有效地降低了分子的聚集，并提高了热性能。
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