【摘 要】
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本文探讨了砷化镓晶片表面的微量杂质及其来源分析。着重介绍了全反射X射线荧光光谱(TXRF),气相分解-电感耦合等离子体发射光谱-质谱(VPD-ICP-MS),飞行时间二次离子质谱(TOF-
【机 构】
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北京通美晶体技术有限公司,北京 101113
【出 处】
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第十六届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议
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本文探讨了砷化镓晶片表面的微量杂质及其来源分析。着重介绍了全反射X射线荧光光谱(TXRF),气相分解-电感耦合等离子体发射光谱-质谱(VPD-ICP-MS),飞行时间二次离子质谱(TOF-SIMS)等现代表面分析技术在测量分析砷化镓晶片表面微量杂质中的应用。简要介绍了各分析技术的原理以及各技术的特点和局限。
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