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组分渐变缓冲层改善UHV/CVD生长GeSi异质外延层的研究
【机 构】
：
大学硅材料国家重点实验室(杭州)
【出 处】
：
第十届全国半导体集成电路、硅材料学术会
【发表日期】
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1997年期
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