1套用一句已故贾植芳先生常用的自我调侃语,我与德海,可以说是“老关系户”了。没记错的话,德海是我的师兄张新颖的第一个研究生,我还记得2001年他入学前,新颖兄和我闲聊,说
该文报道用超高真空化学气相沉积系统(UHV/CVD)方法,采用锗岛缓冲层技术,在硅衬底上生长锗硅外延层。超高分辨电镜(HRTEM)显示,外延层界面过渡良好,外延层顶部结晶质量优于采用线性渐
用X射线双晶衍射对气源分子束外延(GS-MBE)制备的锗/硅纳米周期超晶格(NPS)样品进行了分析。发现对硅层厚度较小的样品,双晶衍射摇摆曲线中由超晶格引起的衍射峰较宽,且看不到干涉引起的精细结
利用UHV/CVD系统进行了Si〈,1-X〉Ge〈,x〉/Si外延,分别用二次离子质谱仪(SIMS)和SSM-150型扩展电阻仪测量了其过渡层,并用扩散理论进行了分析。
该文利用数理分析理论对高纯锗探测器的稳定性进行检测,得出系统正常工作之间所必需的预热时间。从减少统计误差的角度,介绍了样品的测量方法和样品所需最小测量时间的计算方法