【摘 要】
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通过单因素试验讨论了在微弧氧化过程中，向含有Ce(SO4)2的Na2SiO3 电解液体系中添加H2O2，其浓度对AZ91D 合金表面微弧氧化膜层的形成及特性的影响。测定了氧化膜层的厚度，并用X
【机 构】
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内蒙古工业大学材料科学与工程学院,内蒙古呼和浩特,010051
【出 处】
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第12届21省(市、自治区)4市铸造学会会议
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通过单因素试验讨论了在微弧氧化过程中，向含有Ce(SO4)2的Na2SiO3 电解液体系中添加H2O2，其浓度对AZ91D 合金表面微弧氧化膜层的形成及特性的影响。测定了氧化膜层的厚度，并用X 射线衍射（XRD）、扫描电镜（SEM）、能谱（EDS）对氧化膜进行了相组成、表面形貌及元素组成的分析。结果表明：H2O2 含量在1.0~5.0 ml/L 范围内递增时，膜层厚度先增大后减小；随着H2O2 含量的增加，陶瓷层的平整性越来越好，微裂纹减少，而放电孔洞直径增大；XRD 分析结果显示，氧化膜层主要由立方结构MgO 和镁橄榄石相Mg2SiO4 构成；能谱分析结果显示，微弧氧化膜层表面主要由O、Na、Mg、Al、Si、Ce 六种元素组成。
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