Plasma flow control,as a novel active flow control technique,has become a newly—rising focus of international aerodynamics and aerothermodynamics fields.PIV test investigations on flow characteristics
The absorbing property of a three—dimensional metamaterial operating at 12.7GHz is investigated numerically by the model of double C-shaped metallic stripes,which are printed on the each side of a die
二氧化钛薄膜作为一种重要功能薄膜材料，在半导体光催化、太阳能电池、空气净化等领域有着广泛的应用前景。在现有二氧化钛薄膜的沉积技术中，等离子体化学气相沉积(PCVD)因其具有沉积温度低、反应参数容易控制等优点而被大量采用。但PCVD技术多数都是在低气压下进行，需要昂贵的真空系统以及复杂的操作过程。
本文利用热蒸发和等离子体化学气相沉积( Plasma Chemical Vapor Deposition,PCVD)相结合的方法制备了具有较高的光吸收系数、质量较好的SnS薄膜.利用FSEM,AFM,XRD,EDX,UV测试方法对SnS薄膜表面形貌,晶形结构,薄膜成分,光学性能进行了表征,结果表明：在射频功率为270W,基片温度为300℃,沉积时间20min,热处理时间为1h的工艺条件下,所制备出
在我们实验中研制了一种能够在微型空心光纤中产生等离子体的装置，经过测量电压和电流的波形表明，在大气压条件下产生的微等离子体的电流脉冲宽度可达到几个微秒。这些测量数据表明在大气压条件下空心光纤中产生的辉光微等离子体有助于在光纤内壁均匀的沉积氟碳薄膜。利用C4F8和He (1/99)的混合气体放电产生的等离了体经过光谱仪检测发现有多种碳的混合物，例如CF2、CN、C2等。
当前通用的固相高温高压化学制备氮化物和氮氧化物制得的荧光粉容易结块，需要进行粉碎处理，造成颗粒表面破坏，从而导致大量表面缺陷的产生，直接影响发光效率和稳定性。针对荧光粉表面缺陷，我们提出利用离子体表面修饰颗粒技术修饰颗粒表面，改善结晶完整性、尺度均匀性、形貌规则和表面破坏层，提高光效、出光率、显色性，改善热稳定性等性能。
A method to achieve rough AZO films by ion beam post treatment is introduced in this study.The structural and electrical properties have been analyzed as a function of the ion beam by a series of char
为了满足薄膜太阳能电池、柔性显示器件对高性能阻隔薄膜的需求，采用离子辅助电子束双源共蒸发镀膜的方法获得硅铝二元氧化物镀膜。在蒸发镀膜的过程中，将六甲基二硅氧烷或八甲基环四硅氧烷等含硅有机单体按适当比例掺入霍尔离子源的放电氩气中，机硅单体部分电离并掺杂到硅铝二元氧化物镀膜当中。