随着大功率、高能量激光技术的不断发展,光学薄膜已成为激光系统中重要而易损的薄弱环节。在强激光的长期作用下,光学薄膜材料的结构及其性能往往会发生变化,从而导致光谱特性及光学稳定性的改变。因此,寻找一种光学特性良好、制备工艺稳定、抗激光损伤能力强的高折射率材料,对于薄膜激光防护能力的提高和制备工艺的改进,都具有重要的意义。本文针对一种高折射率低吸收镀膜材料LaTiO₃（俗称H4）,研究了激光辐照下薄膜损伤特性的变化,寻找最优镀制工艺,以期为其在激光系统中的应用提供参考。采用电子束热蒸发技术在K9基底上制备单层LaTiO₃激光薄膜。研究了不同工艺条件对LaTiO₃薄膜激光损伤特性的影响。研究结果表明,影响LaTiO₃薄膜激光损伤阈值按显著程度由大到小分别是:沉积温度、工作真空度和沉积束流;获得了制备单层LaTiO₃激光薄膜的最优工艺条件。证明了最优工艺下制备LaTiO₃薄膜具有强的抗激光损伤能力、良好的光学稳定性以及重复性。