基于反应显微成像谱仪系统的真空获得方法

来源 :中国真空学会2016学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:gege1232000
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  反应显微成像谱仪主要用于碰撞动力学的研究,具有电子、离子高精度的符合测量能 力.符合测量就是测得的反冲离子和电子来自于同一个母体离子,这意味着一个激光脉冲最 多与一个原子或分子发生相互作用,要求探测腔内的背景气压足够低[1].激光脉冲聚焦后,按基模高斯光束的特性估算焦点的体积,认为焦点体积内只有一个原子分子,由此可以得到 反应谱仪实现符合测量所需要的真空度须低于 10-10mba.我们所搭建的反应显微成像谱仪系 统如图 1 所示,我们将前级管道串联并通过角阀的开关控制前级真空系统,有效避免了腔体 之间产生压力差,避免损坏小孔和 Skimmer.系统待机状态下,两台Penta35 可以停掉,提 高了前级泵的使用效率.为了使探测腔的真空度低于 10-10mba,需要对探测腔进行高温烘烤 以去除腔体器壁表面吸附和体内扩散的气体[2].以确保仪器的精密部件不受损害,对腔体 加热时以 30℃为一个梯度升温,待真空度恢复到一定水平之后继续升温,直至加热到最高 温度 120 度.烘烤过程中探测腔真空度随温度变化曲线如图 2 所示.实验表明,高温烘烤腔 体中,真空度恢复到目标真空的几十倍甚至一百倍时即可降温,而不必烘烤一定的天数或烘 烤到真空度很难下降为止,这对超高真空的获得提供了一个非常有用的方法.
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