【摘 要】
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以高岭石/二甲亚砜(DMSO)作为前驱体,采用熔融插层法在130℃温度下制备了高岭石/2-吡啶甲酸插层复合物,产物用X射线衍射和Fourier变换红外光谱进行了表征.结果表明：高岭石
【机 构】
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中国矿业大学化工学院 江苏徐州 221008
【出 处】
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中国工程院化工、冶金与材料工程学部第九届学术会议
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以高岭石/二甲亚砜(DMSO)作为前驱体,采用熔融插层法在130℃温度下制备了高岭石/2-吡啶甲酸插层复合物,产物用X射线衍射和Fourier变换红外光谱进行了表征.结果表明：高岭石/2-吡啶甲酸插层复合物中,高岭石的层间距由0.72 nm扩张到1.409 nm,插层率达到84％；在此基础上,分析了2-吡啶甲酸的插层机理,即2-吡啶甲酸分子中羰基与高岭石的内表面羟基形成了氢键,2-吡啶甲酸分子可能以单分子层近似垂直排列于高岭石层间.
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