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针对大面积喷淋式电极甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECvD)反应室,本文应用多物理场耦合分析软件CFD-ACE+,建立二维自适应流体模型。模拟研究了硅薄膜沉积过程中电极间流体场、电场空间分布时等离子体空间分布均匀性的影响,给出了薄膜沉积速率分布均匀性随反应气体流量、等离子体激发频率及辉光功率的变化规律。本文的模拟结果从理论上为大面积喷淋式平板电极VHF-PECVD反应室设计以及反应室工艺条件的优化指导。