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MOCVD生长半导体晶体过程中存在严重的气相化学反应，会降低源的利用率，增加系统的能耗，影响批次晶片的均匀性和所有晶片的生长质量，使得设备的重复性和稳定度难以达到要求。
MOCVD设备中气相反应对晶体生长的影响
【摘 要】
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MOCVD生长半导体晶体过程中存在严重的气相化学反应，会降低源的利用率，增加系统的能耗，影响批次晶片的均匀性和所有晶片的生长质量，使得设备的重复性和稳定度难以达到要求。
【机 构】
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上海交通大学
【出 处】
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第17届全国晶体生长与材料学术会议
【发表日期】
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2015年期
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