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Ti/Si<,3>N<,4>界面反应机理及结构
Ti/Si<,3>N<,4>界面反应机理及结构
来源 :第九届全国特种陶瓷学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:liongliong450
【摘 要】
:
在用融盐法成功实现氮化硅陶瓷钛金属化的基础上,对融盐法制备的钛金属层与氮化硅基体的界面结构研究发现,氮化硅与钛发生反应生成呈层状结构的TiN和Ti〈,5〉Si〈,3〉,并在此基础上,运用化学
【作 者】
:
陈健
潘伟
【机 构】
:
大学材料科学与工程系(北京)
【出 处】
:
第九届全国特种陶瓷学术年会
【发表日期】
:
1996年期
【关键词】
:
界面反应机理
氮化硅陶瓷
化学热力学
稳定相图
融盐
结构研究
基础
反应生成
层状结构
金属化
金属层
硅基体
运用
法制
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在用融盐法成功实现氮化硅陶瓷钛金属化的基础上,对融盐法制备的钛金属层与氮化硅基体的界面结构研究发现,氮化硅与钛发生反应生成呈层状结构的TiN和Ti〈,5〉Si〈,3〉,并在此基础上,运用化学热力学、相稳定相图对界面反是行了讨论。
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