脉冲激光沉积红外探测用PtSi/Si薄膜的组织结构与光电性能

来源 :第四届中国功能材料及其应用学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：sztsb99

【摘要】

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利用脉冲激光沉积技术制备了高质量的PtSi/Si纳米薄膜.采用X射线光电子能谱、原子力显微镜及高分辨电子显微镜等现代材料分析方法,研究了不同工艺参数薄膜的相形成、组分和界

【作者】

：

李美成[1]蔡伟[1]殷景华[1]陈学康[2]赵连城[1]

【机构】

：

哈尔滨工业大学材料科学与工程学院(哈尔滨)

【出处】

：

第四届中国功能材料及其应用学术会议

【发表日期】

：

2001年期

【关键词】

：

脉冲激光沉积(PLD) 光电探测器界面结构光电性能纳米薄膜

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利用脉冲激光沉积技术制备了高质量的PtSi/Si纳米薄膜.采用X射线光电子能谱、原子力显微镜及高分辨电子显微镜等现代材料分析方法,研究了不同工艺参数薄膜的相形成、组分和界面结构,利用I-V法和FTIR法测量了样品的肖特基特性和红外吸收特性等光电性能.系统分析了工艺参数、界面结构与光电性能的关系.揭示了PtSi纳米薄膜的形成条件及其界面结构对红外探测性能的影响规律.

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