【摘 要】
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离子注入技术最初应用于半导体掺杂，由于其方法简单可控、节能环保、注入元素不限、对基材要求低，并且不改变基材的形貌，所以，离子注入技术已经成为材料表面工程的重要手段。本文
【机 构】
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北京化工大学分析测试中心，北京 100029
【出 处】
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2009年全国第二届电磁材料及器件学术会议
论文部分内容阅读
离子注入技术最初应用于半导体掺杂，由于其方法简单可控、节能环保、注入元素不限、对基材要求低，并且不改变基材的形貌，所以，离子注入技术已经成为材料表面工程的重要手段。本文下面采用XPS(X射线光电子能谱)测定Cr离子注入碳钢的Cr深度分布。综合实验结果及讨论，XPS可以作为离子注入深度分布的测试手段，并且能够给出离子注入量的相对深度分布，但是无法给出绝对量分布，并且最表面层的离子注入相对量偏差较大。
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