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一个光学镀膜用低能离子枪的特性
一个光学镀膜用低能离子枪的特性
来源 :中国光学学会85年光学薄膜学术讨论会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:langcy
【摘 要】
:
该文介绍了一个单栅宽束低能离子源、离子束在50mm范围内,离子束引出电压0~1000V时,离子束流密度可达0~60μA/cm[**],这对离子束辅助光学镀膜(I·A·D)来说是够用的。(本刊录)
【作 者】
:
曹家桂
刘友婴
常录
【机 构】
:
南开大学
【出 处】
:
中国光学学会85年光学薄膜学术讨论会
【发表日期】
:
1985年期
【关键词】
:
光学镀膜
低能离子源
离子枪
离子束流密度
离子束辅助
引出电压
宽束
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该文介绍了一个单栅宽束低能离子源、离子束在50mm范围内,离子束引出电压0~1000V时,离子束流密度可达0~60μA/cm[**],这对离子束辅助光学镀膜(I·A·D)来说是够用的。(本刊录)
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