离子束辅助相关论文
采用离子束辅助磁控溅射技术制备CrTiAlCuN薄膜,利用扫描电镜(能谱仪)、X射线衍射仪、硬度计、划痕仪及磨擦磨损试验仪分析检测膜......
期刊
薄膜器件是激光系统中的重要元件之一,其质量及性能的优异是保证激光系统正常运行的关键。离子束辅助沉积是真空热蒸发基础上发展......
立方氮化硼（ｃ－ ＢＮ） 在机械、热、电子及光学方面有许多优异性能，因此世界上有很多研究人员从事ｃ－ ＢＮ 薄膜制备的研究，近年来薄膜沉积技术和ｃ－ ＢＮ 薄......
该文介绍了一个单栅宽束低能离子源、离子束在50mm范围内，离子束引出电压0～1000V时，离子束流密度可达0～60μA/cm[**]，这对离子束辅助光......
利用离子束辅助沉积法，在Si（100）基片上制备了三种Fe-N薄膜（到达比N／Fe＝0.09，0.12，0.15，包括Fe16N2）。对这三种Fe-N薄膜，用铁磁共振测定饱和磁......
TiN是过渡金属氮化物,具有硬度大、熔点高、抗腐蚀性、抗磨损性及抗氧化性好,良好的导电性和导热性,并且具有独特的金黄色,在机械......
小麦是我国的主要粮食作物，它不仅是人类的重要食物来源，还是畜牧业中饲料的重要来源，另外它还是许多轻工业产品的重要原料。然而赤霉......
利用多弧离子镀技术制备的ＴｉＮ等各种硬质膜已经广泛应用于各种工模具表面强化[1 ] 。硬质膜质量的提高主要依赖于多弧离子镀膜机的技......
采用离子束辅助磁控溅射工艺制备CrNx薄膜,研究了不同氮气流量下薄膜微观形貌,组织结构以及力学性能的变化。采用台阶仪测量薄膜的......
采用离子束辅助中频反应磁控溅射技术在单晶硅及YG6硬质合金基体上沉积AlN薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、显微......
室温下应用Ａｒ＋ 离子源辅助准分子脉冲激光沉积（００２）取向的ＹＳＺ（Ｙｔｔｒｉａ－ｓｔａｂｉｌｉｚｅｄ ｚｉｒｃｏ－ｎｉａ）过渡层薄膜于不锈钢基底上；基底加温至７５０℃，用准分子脉冲激光沉积高电流密度ＹＢＣＯ（ＹＢａ２Ｃｕ３Ｏ７－ ｘ） 高温超......
采用中频反应磁控溅射、离子束辅助方法沉积CrTiAlCN多元硬质薄膜，利用扫描电镜、俄歇电子谱、透射电镜及x射线衍射等技术对膜层的......
通过实验数据证明了离子束辅助蒸发对ZnS,MgF2及Al膜层折射率、牢固度及环境耐受性的影响,并简要分析了产生这些影响的原因。......
采用离子束辅助沉积技术（IBED）制备了一系列碳膜，重点分析辅助气体CH4、Ar对碳膜组成相、电阻率、厚度和硬度的影响。结果表明：采用CH4......
利用离子柬溅射诱导实验方法，在单晶Si（100）基底上辅助沉积银膜，研究了低能Ar＋离子束30。入射时，不同离子束能量和束流密度以及基底温度......
钛表面修饰人工晶体的方法及其产品，钛或其合金．经真空等离子体加速气相沉积，离子束辅助成膜技术在〈100℃的低温条件下完成成膜，并在......
超导技术研究开发的目的之一就是实现用高电流密度超导体把电能从发电站输送到用户。目前高温超导体研究人员仍然面临许多挑战,例......
采用离子束辅助真空电弧沉积技术在玻璃衬底上制备了氮掺杂的TiO_2薄膜样品,通过X射线衍射（XRD）、XPS以及UV-Vis分光光度计等测试手......
采用电子束直接蒸发氧化铪、无辅助电子束反应蒸发和离子束辅助反应蒸发金属铪3种沉积方式制备了单层HfO2薄膜，对样品的光学性能、......
基于Leybold APS1104镀膜系统，采用离子束辅助反应沉积技术，以金属Hf粒为初始镀膜材料，APS源偏转电压为50～140V范围内，在[-100]单晶硅片......
立方氮化硼（ｃ－ＢＮ）在机械、热、电子及光学方面有许多优异性能，因此世界上有很多研究人员从事ｃ－ＢＮ薄膜制备的研究，近年来薄膜沉积技术和ｃ－ＢＮ薄膜质量......
TB43 97063841太阳光控膜的实验研究=Experimental research onthe films of controlling solar radiation[刊,中]/焦小浇,胡文旭,......
为了提高工模具的服役性能,采用中频反应溅射,无灯丝离子源辅助的方法沉积了(Cr,Ti,Al)N多元硬质薄膜。分别用电子能谱、X-射线衍......
