【摘 要】
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新型超硬涂层的开发和严苛的工作环境，对涂层综合性能及结合力提出越来越高的要求，较高的沉积粒子离化率及其带来的能量可控性成为开发新型涂层沉积技术的目标。现有的阴极
【机 构】
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北京大学深圳研究生院新材料学院 深圳518055
【出 处】
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TFC`15全国薄膜技术学术研讨会
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新型超硬涂层的开发和严苛的工作环境，对涂层综合性能及结合力提出越来越高的要求，较高的沉积粒子离化率及其带来的能量可控性成为开发新型涂层沉积技术的目标。现有的阴极弧技术虽可产生高密度的金属离子束流，但存在"大颗粒"影响涂层质量与界面结合。高功率脉冲磁控溅射技术(HPPMS)具有高的材料离化率和单离子沉积特征，可产生"清洁"离子束，被认为是物理气相沉积(PVD)技术的发展方向。但HPPMS沿用平面靶，仍存在放电不稳定、溅射材料离化率不一、沉积速率低等问题，严重阻碍了其市场应用。鉴于此，本文从靶结构出发，设计圆筒形靶源代替常规平面靶，将HPPMS不利放电限制在圆筒中，通过引出栅将金属等离子体引出，形成100％离化、能量可控的大束流、清洁金属等离子体束。
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