【摘 要】
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在集成电路技术中,深硅槽主要用于双极集成电路中的隔离以及DRAM中的电容制作.由于双极集成电路中的工作电流大,深硅槽隔离技术对于双极集成电路来说是非常重要的,同时也能减
【出 处】
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第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会
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在集成电路技术中,深硅槽主要用于双极集成电路中的隔离以及DRAM中的电容制作.由于双极集成电路中的工作电流大,深硅槽隔离技术对于双极集成电路来说是非常重要的,同时也能减少器件面积,而对于DRAM制作,深硅槽能制备出大电容,并占用较小的面积.在深沟隔离和深槽电容中,深硅槽的刻蚀技术是很关键的,本文对深硅槽的刻蚀进行了研究.
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