【摘 要】
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该文采用倒筒式直流溅射(ICS)方法，辐射方式加热基片，通过电机带动旋转基自在 基片两面同时溅射沉积YBCO高温超导双面薄膜。在加热温度为850℃，总压35Pa，氧氩比1:2，靶基矩40mm，沉积速率0.06nm/s条件下，在多种尺寸的LaAlO(100)单晶基片上(≤Ω40mm)制得性能优良、两面一致、面内均匀的YBCO高温超导双面薄膜。其中20mm×20mm样品两面性能达到：Tc=89.1K，
【机 构】
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电子科技大学信息材料工程学院(四川成都) 电子科 技大学信息材料工程学院(四川成都)
【出 处】
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第五届全国超导薄膜和超导电子器件学术会议
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该文采用倒筒式直流溅射(ICS)方法，辐射方式加热基片，通过电机带动旋转基自在 基片两面同时溅射沉积YBCO高温超导双面薄膜。在加热温度为850℃，总压35Pa，氧氩比1:2，靶基矩40mm，沉积速率0.06nm/s条件下，在多种尺寸的LaAlO<,3>(100)单晶基片上(≤Ω40mm)制得性能优良、两面一致、面内均匀的YBCO高温超导双面薄膜。其中20mm×20mm样品两面性能达到：Tc<,0>=89.1K，△Tc=0.2K，Jc1=2.69MA/cm<2>，Jc2=2.74MA/cm<2>(77K,0T)，Rs1=0.24mΩ，Rs2=0.29mΩ(77K,10GHz,0T)。并简要介绍了作者在德国KfK研究中心制作3英寸YBCO/Al<,2>O<,3>/YBCO双面膜的制备工艺。
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