【摘 要】
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亚表面缺陷的检测和去除对于提高光学元件的抗激光损伤阈值至关重要。本文提出一种结合全内反射显微技术和数字图像处理技术获得光学元件亚表面缺陷分布信息的新方法。利
【机 构】
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中国科学院上海光学精密机械研究所,上海201800
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亚表面缺陷的检测和去除对于提高光学元件的抗激光损伤阈值至关重要。本文提出一种结合全内反射显微技术和数字图像处理技术获得光学元件亚表面缺陷分布信息的新方法。利用显微镜系统的有限焦深对亚表面缺陷沿深度方向分别进行散射成像，可以获得不同离焦量下的散射图像，通过数字图像处理技术，建立散射图像清晰度评价函数与离焦量的关系，通过清晰度评价曲线得到亚表面缺陷的深度位置及深度尺寸。本文模拟全内反射显微图像的获得过程，讨论微调焦过程中全内反射显微成像的特点。缺陷深度位置及纵向尺寸的测量精度主要由载物台精密调焦机构的精度以及显微镜的焦深决定，一般可达微米量级。
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