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该论文集论述硅材料的目前状况及一些发展趋势，热硅低压化学汽相淀积多晶硅的质量分析，在多晶硅生产中引入全国质量管理提质降耗，纵向磁场ＣＺ硅单晶生长时杂质条纹的形成，高精度分光晶体加工技术，硅晶片在化学活性溶液中的催化反应，硅单晶研磨睡的化学腐蚀特性，用质量分离低能离子束外延技术生长超薄硅单晶薄膜，硅烷中微量甲烷的沾污分析等方面。（秦 引摘）