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本文介绍当前最前沿的几种分辨率增强技术的基本原理及开发应用的现状，如离轴照明，光学邻近效应校正，辅助图形和相移掩模。这些方法连同先进的光刻胶材料一起使光刻技术的分辨率接近到理论的瑞利分辨极限(即k1=0.25)，成为现代光刻工艺中不可或缺的组成部分。
现代光刻工艺中的分辨率增强技术
【摘 要】
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本文介绍当前最前沿的几种分辨率增强技术的基本原理及开发应用的现状，如离轴照明，光学邻近效应校正，辅助图形和相移掩模。这些方法连同先进的光刻胶材料一起使光刻技术的分辨率
【机 构】
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Optical Lithography Department,Silicon Process and Device Technology Division,IMEC,Address:Kapeldree
【出 处】
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中国光学学会2004年学术大会
【发表日期】
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2004年期
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