【摘 要】
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采用脉冲激光沉积法在Si（111) 基片上制备了ZnO 薄膜。利用X 射线衍射、光致发光、扫描电子显微镜等表征技术研究了工作氧压对ZnO 薄膜的结晶特性和光学性能的影响。研究结果
【机 构】
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河北工业大学材料学院，天津 300130 河北大学物理科学与技术学院，保定 071002
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采用脉冲激光沉积法在Si（111) 基片上制备了ZnO 薄膜。利用X 射线衍射、光致发光、扫描电子显微镜等表征技术研究了工作氧压对ZnO 薄膜的结晶特性和光学性能的影响。研究结果表明，氧压的增大，有助于更多的氧原子进入晶格，有效减少薄膜中的缺陷和应力，使ZnO 薄膜结构趋于完整，但是过高的氧压将严重地影响薄膜的沉积速率，加剧衬底Si的氧化，从而使薄膜的结晶质量恶化。所有的ZnO 薄膜均显示出较强的紫外发光峰，并且结晶性与发光特性有很好的一致性。
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