【摘 要】
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该论文主要介绍一种薄膜制备的新方法--电子回旋共振等离子体辅助脉冲激光沉积(electron cyclotron resonance plasma assisted pulsed laser deposition,ECR-PLD).利用该技
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该论文主要介绍一种薄膜制备的新方法--电子回旋共振等离子体辅助脉冲激光沉积(electron cyclotron resonance plasma assisted pulsed laser deposition,ECR-PLD).利用该技术进行碳基化合物薄膜合成制备的一些尝试,以及对制备的几种薄膜的分析表征,脉冲激光沉积(pulsed laser deposition,PLD)是近年发展起来的一种薄膜制备技术,已被成功地用于多种薄膜材料的制备,电子回旋共振(electron cyclotron resonance,ECR)微波放电可以在低工作气压下产生密度高,电离度高,纯度高的等离子体.我们把这两种技术结合起来发展成新的ECR-PLD成膜方法.这种方法综合了PLD成膜和ECR微波等离子体的特点.基于强烈非平衡过程的脉冲激光烧蚀可以突破某些平衡热力学的限制,脉冲激光对靶烧蚀产生的粒子具有较高的动能和位能.这使得低温成膜成为可能;ECR等离子体提供大量化学活性成分,它们易于与激光烧蚀的产物反应;ECR等离子体对衬底的辐照还利于高质量膜层的形成.这一方法特别适宜于低温条件下化合物的形成和膜层的生长.该论文的工作尝试把这一方法应用于碳基化合物氮化碳(CN),碳化硼(BC)和硼碳氮(BCN)薄膜的合成制备.
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