随着光学技术的发展,具有超光滑表面的平面光学元件应用越来越广,传统抛光技术大多存在效率低,加工质量难以控制,难以满足大批量、低成本、高质量的生产需求。磁流变抛光以其独特的加工原理,在光学玻璃加工领域发展迅速。传统轮式磁流变抛光能在达到高面型精度的同时获得较低的表面粗糙度,但是加工效率低。本课题组提出了一种大抛光模高效率的磁流变平整加工工艺。但是加工后工件表面平整度有待提高。针对这一问题本文在原有基础上增加工件的直线摆动以改善工件表面平整度。具体研究工作如下：(1)建立工件与磨粒之间的相对运动轨迹方程。依据实际加工情况,规定只有工件表面与研抛模相互作用时为有效加工,采用离散积分的方式求得工件表面个点在不同摆动形式下有效加工轨迹长度。通过分析有效加工轨迹长度可以初步预测到X-X直线摆动形式可以改善工件表面的平整度。(2)利用自行搭建的实验平台进行工艺实验。通过单因素实验,研究直线摆动方式、直线摆动距离、直线摆动速度、工件转速、加工间隙、研抛槽转速等工艺参数对材料材料去除率和工件表面平整度的影响,并分析了其原因。实验结果表明,通过直线摆动方式的磁流变平整加工,工件表面平整度得到了大幅度提高。以K9玻璃为例,加工后表面平整度Pv值达到2.578λ,相对于无摆动加工后表面PV值12.568λ有加大改善。(3)进行了磁流变平整加工亚表面损伤测试实验。结果表明磁流变平整加工工艺可以消除先前工序所产生的亚表面损伤并且不会引入新的损伤。