短波软X射线多层膜性能和制备技术研究

来源 :中国科学院上海光学精密机械研究所 | 被引量 : 0次 | 上传用户:kanshu
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软X射线多层膜反射元件在天文学、生物样品的全息术、X射线平板印刷术、和X射线激光以及同步辐射装置上等方面都有非常重要的用途.论文用X射线的衍射理论系统分析多层膜中杂质对X射线多层膜反射率的影响,并给出了一个反映杂质含量和多层膜反射率关系的公式.根据普通光学理论推导出厚度误差与多层膜反射率的关系,理论上说明了微小厚度随机误差会严重降低短波段软X射线多层膜的反射率.该文还强调多层膜界面相关性能减小基底粗糙度对多层膜反射率的影响;认为计算影响多层膜反射率的Debye-Waller因子时,应该把粗糙度和相关因子统一考虑.论文在两个表面粗糙度不同的基底上制备短波段多层膜.把所有缺陷的集合定义为广义粗糙度,广义粗糙度的值实际上反映了多层膜的综合质量指标.该论文给出了计算这种综合质量指标的计算公式.论文用不同的溅射功率制备单层Mo膜和Mo/Si多层膜.通过原子散射因子和能量的关系曲线考察了多种材料在不同光子能量区域的光学性能,并通过计算机模拟计算优化了不同波段的材料配对和多层膜结构参数.
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