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本文采用正偏压作用下多弧离子镀与等离子体基离子注入相结合的复合沉积技术,通过改变气体流量、正偏压以及离子注入电压,在不同工艺条件下以硅片为基底制备了ZrO_2薄膜。利用XPS、XRD、AFM和TEM研究了正偏压作用下离子复合沉积ZrO_2薄膜的成分、相结构、表面形貌以及微观组织。利用纳米压痕仪测量正偏压作用下离子复合沉积ZrO_2薄膜的硬度及弹性模量。对ZrO_2薄膜进行退火处理,研究退火处理对薄膜的成分、相结构、表面形貌、硬度及弹性模量的影响。薄膜的相结构以微晶或非晶态为主。在