【摘 要】
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对于电子薄膜材料研究,薄膜的微观结构、成分和厚度是决定薄膜性能的一个关键因素。如何表征薄膜的微观结构、成分和厚度也一直是薄膜研究领域的一个重要课题,尤其是应用无损表征方法。扫描电子显微镜配备X射线能谱仪分析技术(电子探针能谱)能够观察微观形貌和分析薄膜的微区成分的同时,根据电子束的穿透深度可测量薄膜的厚度。其它任何薄膜分析技术都无法同时具备以上三个功能。采用电子探针能谱分析技术时,由于X射线激发深
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对于电子薄膜材料研究,薄膜的微观结构、成分和厚度是决定薄膜性能的一个关键因素。如何表征薄膜的微观结构、成分和厚度也一直是薄膜研究领域的一个重要课题,尤其是应用无损表征方法。扫描电子显微镜配备X射线能谱仪分析技术(电子探针能谱)能够观察微观形貌和分析薄膜的微区成分的同时,根据电子束的穿透深度可测量薄膜的厚度。其它任何薄膜分析技术都无法同时具备以上三个功能。采用电子探针能谱分析技术时,由于X射线激发深度较大,当薄膜厚度较小时,会同时出现薄膜层和基片的谱线,严重影响薄膜成分的分析结果。为了排除基
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