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本文主要采用磁控溅射的方法研究了过渡金属掺杂氮化铜的制备和光电性能以及器件的应用。首先研究了金属Sc掺杂氮化铜薄膜的热稳定性和光学性能的影响,有效的改良了薄膜的热稳定性和调节光学带隙。然后进一步研究了氮化铜光电学性能的应用,发现金属Mo掺杂氮化铜提高了薄膜的光电响应性能,应用于新型的光电探测器。最后基于Mn掺杂的氮化铜薄膜可以应用于锂电池负极材料,提高了基于纯氮化铜作为锂电池负极材料的稳定性。本文主要包括以下三个方面:室温下采用反应磁控溅射仪器制备Sc掺杂氮化铜薄膜主要沿(111)面生长,Sc掺杂薄