基于柔性衬底的ZnO:Ga透明导电薄膜的制备及其性能研究

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如今,随着光电子器件的快速发展,使得人们对于透明导电薄膜性能要求日渐提高。继铟锡氧化物薄膜之后,ZnO薄膜已成为最重要的电极材料之一。在薄膜衬底方面,柔性材料因为质量轻、成本低、柔韧性好等优点,正在逐渐取代石英玻璃等硬质材料,成为透明导电薄膜衬底的首要选择。因此,在柔性衬底上制备ZnO基透明导电薄膜更是具有相当广阔的应用前景。但是,因为柔性衬底材料的特殊性,使其并不能与ZnO基透明导电薄膜良好结合。薄膜弯曲后极易出现脱落或者是龟裂现象,严重影响了薄膜的电学性能,这也是柔性电子材料走向产业化道路亟待解
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