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尖晶石结构的钴铁氧体(Co Fe2O4,简称CFO)薄膜因具有饱和磁化强度高、矫顽力高、磁晶各向异性大、化学性能稳定、耐腐蚀耐磨损等优异的物理化学性质而被广泛研究,但因本身不具有铁电性而并不是多铁材料。本文试图通过微量掺杂Al/Li,得到除Bi Fe O3之外的,又一种在室温自然状态下,时具有铁电性与铁磁性的单相多铁材料,并且合适的种子层的引入可以调控薄膜的残余应力、磁性能、薄膜质量等,因此本文以CFO基薄膜为研究对象,研究种子层对CFO基薄膜结构与电磁性能的影响。其中用X射线衍射分析了薄膜的相结构