界面种子层对CoFe2O4基薄膜结构和性能的影响

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【摘要】

：

尖晶石结构的钴铁氧体(Co Fe2O4,简称CFO)薄膜因具有饱和磁化强度高、矫顽力高、磁晶各向异性大、化学性能稳定、耐腐蚀耐磨损等优异的物理化学性质而被广泛研究,但因本身不具有铁电性而并不是多铁材料。本文试图通过微量掺杂Al/Li,得到除Bi Fe O3之外的,又一种在室温自然状态下,时具有铁电性与铁磁性的单相多铁材料,并且合适的种子层的引入可以调控薄膜的残余应力、磁性能、薄膜质量等,因此本文以

【作者】

：

张亚楠

【机构】

：

哈尔滨工业大学

【发表日期】

：

2015年06期

【关键词】

：

界面种子层钴铁氧体薄膜介电性能磁性能铁电性能

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