离子交换膜是电渗析的核心部件,随着电渗析应用领域不断发展拓展,对高性能的单价选择性离子交换膜的需求越来越大。但是目前单价选择性离子交换膜的制备还面临很多问题和挑战,如何制备高选择透过性、低电阻、长期运行稳定的单价选择性离子交换膜是目前研究的重点。本论文主要通过表面改性的方法来制备单价选择性离子交换膜,并在改性过程中引入叠氮基团进行交联,致力于解决改性膜的改性层不稳定,在使用过程中易脱落的问题,以提高改性膜的使用寿命。分别通过层层电沉积交联改性和内表层渗透交联改性的方法制备得到稳定的单多价选择性阴离子交换膜,并对其各方面的性能进行了表征。层层电沉积交联改性,运用电沉积方法,在商业阴离子交换膜的表面沉积PSS/HACC多层聚电解质,获得具有单多价选择分离性能的阴离子交换膜。再利用后渗透法,将小分子光交联剂——DAS引入到聚电解质改性层中,通过紫外光照,使叠氮基团与聚电解质和膜表面材料发生共价交联,将聚电解质多层之间、与膜表面之间通过共价键连接起来,以提高改性层的稳定性。实验发现改性膜具有良好的单价离子选择性和长期运行稳定性。内表层渗透交联改性,利用膜内表层改性的方法,通过直接渗透法使小分子DAS渗透进入膜表层,使膜表层带有负电荷,具有一二价选择性能;再在紫外光照下DAS与膜表层物质发生交联,通过共价键将DAS固定在膜表层结构中提高改性膜的稳定性;同时膜内表层改性未增加膜厚度,在获得选择性膜时减少膜电阻增加量。实验获得的最好的改性膜D-5的相对选择性达到11.2且在80h的电渗析过程中选择性保持不变,而膜面电阻的增加率仅为27.48%。