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场发射平板显示器件以其高亮度、体积小、低能耗、高视觉性能等优点深受众多研究者的青睐，要制造出高质量的场发射平板显示器件，不仅需要高性能的阴极，还需要与之相匹配的阳极荧光层以及较高的器件封装技术。由于场发射平板显示工作条件的改变，传统的涂敷式荧光屏己经不能满足它的要求。 本文从优化场发射平板显示阳极荧光层的角度出发，利用脉冲激光沉积技术，通过改变激光脉冲能量、沉积室氧压等参量，并采取对荧