由于电弧离子镀技术具有沉积速率高、离化率高、膜层致密和结合力强等优势，在镀膜工艺中得到了广泛应用。然而电弧离子镀的双放电回路使得工艺环境下会发生剧烈的负载扰动，同时在电弧的热作用下靶材上会产生熔滴颗粒，若无法保证负载扰动下电源的输出特性，熔滴就会穿过靶材和工件之间鞘层，到达工件膜层表面，产生“大颗粒现象”，这也是咆弧离子镀在高性能膜层场合应用的瓶颈，因此保证偏压电源在扰动下的输出特性显得非常重要。　　为了满足工艺环境下电源输出特性需求，提高工件表面的膜层性能，本文针对于偏压电源的负载特性，提出了一种基于扩张状态观测器的模糊控制策略。文章首先在工艺环境下对电弧离子镀负载特性进行研究，分析了影响负载特性的因素及与系统输出的关系，同时结合电弧离子镀负载特性分析，建立了偏压电源的数学模型；然后在基于扩张状态观测器的模糊控制系统设计中，根据系统设计指标利用相平而法设计了模糊控制规则，并利用李业普诺夫理论对模糊控制系统的稳定性进行了分析；另外，通过在扩张状态观测器建模中引入模型补偿减小观测器观测压力，提高观测精度，并对控制算法的具体实现进行了详细的阐述；最后在Matlab/Simulink仿真环境下验证了基于扩张状态观测器的模糊控制策略的合理性和有效性，同时以高性能DSP TMS320F2808作为核心控制芯片设计电源的控制系统，井搭建了一台1kW的实验样机。仿真和实验结果均表明所设计控制策略具有良好的跟随特性和鲁棒性，有效的抑制了负载扰动对偏压电源输出特性的影响，满足电弧离子镀工艺需求。