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表面钝化是高效太阳电池的一项关键技术。现今,在光伏行业中广泛应用的钝化技术有等离子体增强化学气相沉积氮化硅PECVD-SiNx,原子层沉积氧化铝ALD-Al2O3,热氧化硅Thermal grown-SiO_2等等。尽管它们在硅太阳电池上的钝化性能很优越,但制备它们都需要使用昂贵的设备并且后两者的生长速率较慢。本论文中,我们用液相沉积的方法制备了 SiO_2薄膜。这种方法与热氧化硅方法相比具有操作简单,低温生长,沉积速率快的优点。液相沉积SiO_2薄膜均匀致密,与衬底的覆盖性良好。我们已经发现液相沉