纳米压印(nanoimprint lithography)技术是在20世纪90年代中期发展起来的一种新型的微纳结构制备技术。它继承了传统光刻技术的并行性，因此具有与传统光刻技术可比拟的高产率。同时又继承了直写式纳米结构制备技术(例如扫描探针刻蚀技术)的高分辨性。纳米压印技术另一特点在于借鉴了古老的压模技术，因此避免在光刻技术中所用到的昂贵的光学系统，从而大大降低了成本。纳米压印技术的这些特点使这种技术被认为是最有应用前景的下一代微纳结构刻蚀技术(Next Generation Lithography)之一。在本研究工作中，首先建立了纳米压印技术的完整工艺流程，并对现有的纳米压印技术进行进一步的改良，使之能够运用于更广泛的领域。这种改良的纳米压印技术——负型纳米压印技术——在制备金属结构和的微纳复合结构压印中比传统纳米压印技术更为有利。在本研究工作中，我们也对仿生纳米结构的制备进行了研究。利用铸模和纳米压印两种方法并以蝉翼为天然模板制备了蝉翼的负型结构和与蝉翼表面结构相似的正结构，并对在仿生结构制备过程中在材料和方法上出现的问题进行了详细的讨论。主要研究内容归纳如下： (1)纳米压印技术工艺流程的建立。纳米压印技术在国内仍然是一项新兴的技术，并没有现成的模式可循，建立完整的纳米压印技术工艺流程是研究纳米压印技术并对之进行改良和应用的必要条件。本文的首要任务就是结合实际建立起完整的纳米压印技术工艺流程，为下面的工作打好坚实的基础。 (2)对传统纳米压印技术的改良——负型纳米压印技术。传统纳米压印技术在处理微纳结构共存的情况时由于受到聚合物流动性能的影响而存在不可避免的问题——压印的不均匀性。这大大限制了纳米压印技术的应用领域。同时，传统纳米压印技术在金属化过程中存在金属表面不平整的问题。为了有效避免上述问题，我们在传统纳米压印技术工艺上发展出了负型纳米压印技术。我们在旋涂光刻胶之前于硅基底表面先蒸镀金属膜，经过压印工艺后，以所得的光刻胶图形为掩膜通过湿法化学腐蚀的方法腐蚀金属膜，可以得到线条光滑的金属纳米结构。应用负型纳米压印技术制备了金属光栅结构并且通过控制腐