在 TiN 薄膜中掺入一定比例的 Cr 可以显著改善 TiN 涂层的力学性能和高温抗氧化性能,对(Ti,Cr)N 多元膜的优化工艺、显微组织及性能研究具有重要的应用价值。本文在 MIP—8 型多弧离子镀膜设备上采用分离靶技术沉积了(Ti,Cr)N 薄膜,通过调整试样与 Ti 靶和 Cr 靶的相对位置改变(Ti,Cr)N 薄膜的成分。考察了沉积工艺对薄膜表面液滴分布、表面粗糙度、薄膜成分、沉积速率、显微硬度及膜基间的结合力的影响。结果表明:随着沉积偏压的增加,试样表面的液滴数量有所减少,液滴所占面积百分比逐渐降低,液滴尺寸有所减小;随着试样与靶面的相对方位角减小,试样表面的液滴数量明显增加,且尺寸有所增大。随着试样在真空室内位置由上而下变化,即试样与 Ti 靶和 Cr 靶的相对距离由远及近,薄膜中 Cr 含量在逐渐增大,随着沉积偏压的增大,Cr 含量也有微量的减少。随着沉积偏压的增加,薄膜的表面粗糙度值有所下降;试样与靶面相对角较小时,薄膜的表面粗糙度值高,正对靶面的试样的表面粗糙度值低。随着沉积偏压的增大,膜层的厚度在逐渐降低,随着试样在真空室内位置由上而下变化,即试样与 Ti 靶和 Cr 靶的相对距离由远及近,膜层的厚度也在逐渐增大。(Ti,Cr)N 膜层的本征硬度随着沉积偏压的增大而增大,随着 Cr 含量的增加而减小。随着偏压的增大、Cr 含量的增加,划痕法测得的临界载荷值接近,考虑到膜层厚度及薄膜硬度等非界面因素对临界载荷值的影响,实际膜基间的结合强度增大。