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本文研究了F-DLC薄膜的附着性能。实验制备了两种F-DLC薄膜样品,第一种采用反应磁控溅射法,以氩气(Ar)和三氟甲烷(CHF3)为源气体并利用316L不锈钢为基片,制备了F-DLC薄膜;第二种以Ar为源气体,以316L不锈钢为基片,在不同功率条件下制备了Si过渡层,并在该Si薄层上沉积了F-DLC薄膜。通过划痕实验测试了各个样品的膜/基结合强度。结果表明,引入Si过渡层可以明显增强氟化类金刚石薄膜和不锈钢基片之间的附着力,并且附着力和沉积Si过渡层的射频输入功率有关,该功率为200W时,F-DL